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कंपनी की खबर यूवी उपचार का "अदृश्य हत्यारा": तंत्र विश्लेषण और ऑक्सीजन अवरोध का समाधान

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चीन Shenzhen Super- curing Opto-Electronic CO., Ltd प्रमाणपत्र
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यूवी उपचार का "अदृश्य हत्यारा": तंत्र विश्लेषण और ऑक्सीजन अवरोध का समाधान
के बारे में नवीनतम कंपनी की खबर यूवी उपचार का "अदृश्य हत्यारा": तंत्र विश्लेषण और ऑक्सीजन अवरोध का समाधान

यूवी इलाज का "अदृश्य हत्यारा": ऑक्सीजन अवरोध का तंत्र विश्लेषण और समाधान

 

 

  21वीं सदी की सबसे महत्वपूर्ण हरित विनिर्माण तकनीकों में से एक के रूप में, पराबैंगनी इलाज (यूवी इलाज) तकनीक मुद्रण, इलेक्ट्रॉनिक्स, ऑटोमोबाइल और चिकित्सा उपचार जैसे कई क्षेत्रों में महत्वपूर्ण भूमिका निभाती है। हालाँकि, ऑक्सीजन अवरोध एक "अदृश्य हत्यारे" की तरह है, जो यूवी इलाज तकनीक के प्रदर्शन और अनुप्रयोग विस्तार को गंभीर रूप से प्रतिबंधित करता है।

  ऑक्सीजन अवरोध का सबसे सीधा प्रदर्शन कोटिंग सतह की "चिपचिपाहट" है: यूवी प्रकाश विकिरण के बाद, कोटिंग का अंदरूनी भाग पूरी तरह से ठीक हो गया है, लेकिन सतह चिपचिपी रहती है, और अपेक्षित इलाज प्रभाव प्राप्त नहीं किया जा सकता है। यह "असंगत" घटना न केवल उत्पाद की उपस्थिति गुणवत्ता को प्रभावित करती है, बल्कि बाद की प्रसंस्करण कठिनाइयों, उत्पाद प्रदर्शन में गिरावट, और यहां तक कि उत्पादों के पूरे बैच को स्क्रैप करने का कारण भी बन सकती है।

  उत्पाद प्रदर्शन के दृष्टिकोण से, ऑक्सीजन अवरोध सतह पर बड़ी संख्या में अस्थिर ऑक्सीकरण संरचनाओं को जन्म देगा, जिससे पीलापन और पिनहोल जैसे दोष होंगे, जो उत्पाद के सेवा जीवन और विश्वसनीयता को गंभीर रूप से प्रभावित करते हैं। अपनी अद्वितीय ट्रिपलेट ग्राउंड स्टेट संरचना के कारण, ऑक्सीजन अणुओं की मुक्त कणों के साथ प्रतिक्रिया दर सामान्य बहुलकीकरण प्रतिक्रियाओं की तुलना में 4-5 ऑर्डर अधिक होती है, जो ऑक्सीजन अवरोध घटना का मूल कारण है।

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  अध्ययनों से पता चला है कि निष्क्रिय वातावरण सुरक्षा, सूत्र अनुकूलन और प्रक्रिया सुधार जैसे व्यापक उपायों के माध्यम से, ऑक्सीजन अवरोध को प्रभावी ढंग से दबाया जा सकता है और यूवी इलाज दक्षता और उत्पाद की गुणवत्ता में काफी सुधार किया जा सकता है।

1. भौतिक अवरोध: फ्लोटिंग वैक्स विधि और कोटिंग विधि।

2. प्रकाश की तीव्रता: ऑक्सीजन अवरोध को कम करने का एक सरल तरीका प्रकाश की तीव्रता बढ़ाना है, जिससे आरंभकर्ता मुक्त कणों की उच्च सांद्रता बनाएगा, जो जल्दी से घुली हुई ऑक्सीजन के साथ मिल जाएगा और इसकी सांद्रता कम हो जाएगी।

3. प्रकाश स्रोत: निरंतर विकिरण यूवी फ्लैश तकनीक कम और उच्च-तीव्रता वाले पराबैंगनी विकिरण दालों का उत्पादन कर सकती है, जिससे मुक्त कणों की अत्यधिक उच्च सांद्रता उत्पन्न होती है। एक्साइमर लैंप द्वारा उत्सर्जित वैक्यूम पराबैंगनी प्रकाश (जैसे 172 और 222nm) केवल 1-2μm की अल्ट्रा-थिन कोटिंग्स को ठीक कर सकता है क्योंकि वैक्यूम पराबैंगनी प्रकाश की कम पारगम्यता होती है; इस बैंड में इलाज के लिए एक फोटोइनिशिएटर की आवश्यकता नहीं होती है, संबंधित आरंभिक मुक्त कण सांद्रता बहुत कम होती है, और जब प्रतिक्रिया हवा में की जाती है तो महत्वपूर्ण ओजोन उत्पन्न होता है।

पब समय : 2025-07-18 09:18:50 >> समाचार सूची
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